| 发明名称 | 水溶性唑前药的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种不使用具有毒性的溶剂、适于高效脱保护反应的工业化的方法，还提供一种高效的水溶性唑前药的制造方法等。本发明的制造方法为式(I)(式中，X为键合在苯基的4位或5位上的氟原子)表示的盐的制造方法，包含(a)步骤，即在碳正离子清除剂的存在下，对式(II)表示的化合物进行脱保护反应，式中，X为键合在苯基的4位或5位上的氟原子。 | ||
| 申请公布号 | CN101341160B | 申请公布日期 | 2012.01.25 |
| 申请号 | CN200680048047.9 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | 卫材R&D管理有限公司 | 发明人 | 佐生学;佐藤圭三;新岛淳;宮泽守;根木茂人;镰田厚 |
| 分类号 | C07F9/6558(2006.01)I;C07C229/26(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61K31/675(2006.01)I;A61P31/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I | 主分类号 | C07F9/6558(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 1.式(I)表示的盐的制造方法，包含下述步骤：(a)步骤，在第一有机酸及/或碳正离子清除剂的存在下，对式(II)表示的化合物进行脱保护反应，生成式(III)表示的化合物，所述第一有机酸选自三氟乙酸、甲磺酸、三氟甲磺酸、苯磺酸及甲苯磺酸，所述碳正离子清除剂选自无机酸、可以具有取代基的C1-C6烷氧基苯、可以具有取代基的C1-C6烷硫基苯、腈化合物及它们的混合物，其中，所述取代基选自卤原子、羟基、氰基、硝基、羧基及氨基，所述腈化合物选自乙腈、丙腈及苄腈；(b)步骤，在水、有机溶剂及酸的存在下，使所述式(III)表示的化合物与赖氨酸反应，其中，使用所述第一有机酸时，始终存在碳正离子清除剂，<img file="FSB00000653196600011.GIF" wi="1535" he="586" />式中，X为键合在苯基的4位或5位上的氟原子，<img file="FSB00000653196600012.GIF" wi="1041" he="657" />式中，X为键合在苯基的4位或5位上的氟原子，<img file="FSB00000653196600021.GIF" wi="982" he="604" />式中，X为键合在苯基的4位或5位上的氟原子。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||