可见光高透射率DLC涂层的制备方法

摘要

本发明揭示了一种可见光高透射率DLC涂层的制备方法，该涂层用于保护工作在可见光波段的光学器件，包括离子清洗工艺和溅射镀膜工艺，在这两个工艺过程中，真空室的温度始终保持在200-400℃之间。本发明的有益效果主要体现在：本发明的涂层方法采用PVD镀膜技术，具有制备工艺简单、原材料经济，无污染，反应产生的尾气无毒等优点，而且对于波长在600-800nm的可见光的透过率好，硬度很高，抗划伤能力强，物理化学性能稳定。

主权项

一种可见光高透射率DLC涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤，步骤一：将镀膜真空室抽至5.0*10‑3Pa以上的真空度；步骤二：使用加热器加热所述镀膜真空室至200‑400℃，并保持至少1小时，并使所述镀膜真空室的真空度达到1.0×10‑3Pa以上；步骤三：向镀膜真空室内通入氩气，使真空腔内的真空度达到1.0‑20.0Pa，步骤四：开启离子束电源，开始对基板表面进行离子清洗工序；离子清洗过程中，偏压200‑2000V，施加在离子束上的工作电压大于1000V，工作电流在50mA‑150mA之间；离子清洗工序的时间为5‑30分钟；步骤五：通入碳氢反应气体，使真空腔内的真空度达到0.05Pa～10.0Pa；步骤六：开启溅射电源开始溅射镀膜，偏压大于1000V，施加在离子束电压大于1000V，离化电流50‑200mA，直至涂层厚度达到10‑500nm，结束。