| 发明名称 | DDR型沸石膜的生产方法 | ||
| 摘要 | 一种DDR型沸石膜的生产方法，具有将多孔性基质浸泡于分散了DDR型沸石粉末的晶种形成用原料溶液中，进行水热合成，在多孔性基质表面形成多个DDR型沸石晶粒的晶种形成工序，和将表面形成有DDR型沸石晶粒的多孔性基质浸泡于不含有DDR型沸石粉末的膜形成用原料溶液，进行水热合成，在多孔性基质的表面形成DDR型沸石膜的膜形成工序。提供一种能制造致密DDR型沸石膜，且能防止合成用容器损伤的DDR型沸石膜的生产方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102333727A | 申请公布日期 | 2012.01.25 |
| 申请号 | CN201080009728.0 | 申请日期 | 2010.02.15 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社 | 发明人 | 新野真纪子;谷岛健二 |
| 分类号 | C01B37/02(2006.01)I;B01D69/10(2006.01)I;B01D69/12(2006.01)I;B01D71/02(2006.01)I;C01B39/48(2006.01)I | 主分类号 | C01B37/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 徐申民;李晓 |
| 主权项 | 一种DDR型沸石膜的生产方法，具有：晶种形成工序，将多孔性基质浸泡于分散了DDR型沸石粉末的含有1‑三环癸胺、二氧化硅和水的晶种形成用原料溶液中，进行水热合成，以使在所述多孔性基质表面形成多个DDR型沸石晶粒，和膜形成工序，将所述表面形成有DDR型沸石晶粒的多孔性基质浸泡于含有1‑三环癸胺、二氧化硅和水而不含有DDR型沸石粉末的膜形成用原料溶液，进行水热合成，在所述多孔性基质的表面形成DDR型沸石膜。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县 | ||