发明名称 |
Konzept zur nass-chemischen Entfernung eines Opfermaterials in einer Materialstruktur |
摘要 |
Verfahren zur nass-chemischen Entfernung eines Opfermaterials (16) in einer Materialstruktur (12) zur Erzeugung eines Hohlraumes, mit folgenden Schritten: – Bereitstellen der Materialstruktur (12), wobei die Materialstruktur (12) einen durch eine Öffnung (20) zugänglichen Behandlungsbereich (22a, 22b) mit dem Opfermaterial (16) aufweist; – In-Kontakt-Bringen des Opfermaterials (16) mit einem nass-chemischen Behandlungsmittel (24) durch die Öffnung (20) zur Entfernung des Opfermaterials (16) und dadurch Bilden des Hohlraums; – Erzeugen einer mechanischen Schwingung im Megaschallbereich in dem nass-chemischen Behandlungsmittel (24) und der Materialstruktur (12) während des In-Kontakt-Bringens des Opfermaterials (16) mit dem nass-chemischen Behandlungsmittel (24); und – Verschließen der Öffnung (20) zum räumlichen Abschließen des Hohlraums.
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申请公布号 |
DE102005004795(B9) |
申请公布日期 |
2012.01.19 |
申请号 |
DE200510004795 |
申请日期 |
2005.02.02 |
申请人 |
AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE. LTD. |
发明人 |
FRANOSCH, MARTIN;MECKES, ANDREAS, DR.;OPPERMANN, KLAUS-GUENTER |
分类号 |
B81C1/00;H01L21/306 |
主分类号 |
B81C1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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