发明名称 Konzept zur nass-chemischen Entfernung eines Opfermaterials in einer Materialstruktur
摘要 Verfahren zur nass-chemischen Entfernung eines Opfermaterials (16) in einer Materialstruktur (12) zur Erzeugung eines Hohlraumes, mit folgenden Schritten: – Bereitstellen der Materialstruktur (12), wobei die Materialstruktur (12) einen durch eine Öffnung (20) zugänglichen Behandlungsbereich (22a, 22b) mit dem Opfermaterial (16) aufweist; – In-Kontakt-Bringen des Opfermaterials (16) mit einem nass-chemischen Behandlungsmittel (24) durch die Öffnung (20) zur Entfernung des Opfermaterials (16) und dadurch Bilden des Hohlraums; – Erzeugen einer mechanischen Schwingung im Megaschallbereich in dem nass-chemischen Behandlungsmittel (24) und der Materialstruktur (12) während des In-Kontakt-Bringens des Opfermaterials (16) mit dem nass-chemischen Behandlungsmittel (24); und – Verschließen der Öffnung (20) zum räumlichen Abschließen des Hohlraums.
申请公布号 DE102005004795(B9) 申请公布日期 2012.01.19
申请号 DE200510004795 申请日期 2005.02.02
申请人 AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE. LTD. 发明人 FRANOSCH, MARTIN;MECKES, ANDREAS, DR.;OPPERMANN, KLAUS-GUENTER
分类号 B81C1/00;H01L21/306 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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