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Anode pour l'émission de rayons X, comprenant un substrat et, sur une portion de surface du substrat, un revêtement (4) comprenant une pluralité de groupes (7) superposés ou empilés de sous-couches (8, 9), chaque groupe comprenant au moins une première sous-couche (8) et une deuxième sous-couche (9) superposées ou empilées, au moins un sous-couche superficielle (9n) étant apte à produire des rayons X sous l'effet d'un faisceau incident d'électrons. Procédé de fabrication de cette anode dans lequel, pour chaque groupe, la structure est réchauffée avant le dépôt des sous-couches (8, 9) et refroidie après ce dépôt.
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