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一种转轴定位装置，系包括：一壳体，所述的壳体系形成一几何形断面的型态，而界定有一槽室；一转子，系设置在该槽室内；以及一反应器，系配置在该槽室内，恒常的压向转子，使反应器和转子形成一干涉状态。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系位在该槽室和转子之间。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该壳体系形成一圆形断面的型态。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该壳体系设置有一沿平行于壳体的轴线方向延伸的桩，形成在槽室内。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该壳体系设置有凸部，使壳体固定在一座上；以及壳体系包含有一通孔，和该槽室相通。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该转子系具有一栓孔，使转子和一转轴枢接在一起。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该转子的限制部系形成在转子的圆周端面上。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该转子系具有至少一限制部。如申请专利范围第８项所述之转轴定位装置；其中，该转子系具有二个限制部，形成大约相隔９０°的位置配置。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系选择一弹性片状材料制成。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系选择一弹性片状材料制成一趋近半圆形的型态，而具有一开口。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系具有一作用部；所述的作用部系在反应器上形成一弯折或突出结构的型态。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系包括有一枢接端和至少一自由端。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系具有至少一阻动部。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系具有至少一阻动部；所述的阻动部系朝向反应器内面的方向形成一肋或脊的型态。如申请专利范围第８项所述之转轴定位装置；其中，该转子的限制部系形成沟槽的型态，沿平行于转子的轴线方向延伸。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该反应器系具有至少一阻动部；所述的阻动部系形成一沟槽的型态。如申请专利范围第８项所述之转轴定位装置；其中，该转子的限制部系形成一肋或脊的型态。如申请专利范围第１项所述之转轴定位装置；其中，该壳体槽室系被一固定器封闭。 |
