| 主权项 |
一种化合物，具有下式@sIMGTIF!d10065.TIF@eIMG!或其互变异构物，或该化合物或互变异构物之药学上可接受之盐，其中：(a)R1为H、－(C1－C4)烷基、－(C1－C4)全氟烷基、－(C1－C4)全氟烷氧基、或－(C1－C4)烷氧基；(b)R2及R3分开各自为H、－(C1－C4)烷基、或－(C1－C4)全氟烷基；或R2及R3与其附接之碳共同形成－(C3－C6)环烷基；(c)R4为H或－(C1－C4)烷基：(d)R5a、R5b、R5c及R5d各自分别为H、F、Cl、Br、－(C1－C4)烷基、－OH或－O－(C1－C4)烷基；(e)Q为－O－或键结；(f)A为－(C3－C6)伸环烷基、－(C3－C6)伸环烯基或伸苯基；(g)Z为－C(R6a)(R6b)－或键结，其中R6a及R6b各自分别为－H或－(C1－C4)烷基，或R6a及R6b与其附接之碳共同形成为－(C3－C6)环烷基；(h)R7为C(O)R8，氰基、羟基、－(C1－C4)烷氧基、－(C1－C4)全氟烷氧基或羧酸模拟物；(i)R8为－OR9或NHR10；(j)R9为－H、－(C1－C4)烷基、或－(C1－C4)全氟烷基；及(k)R10为－H、－(C1－C4)烷基、四唑基或S(O)2CF3。如申请专利范围第1项之化合物，或其互变异构物，或该化合物或该互变异构物之药学上可接受之盐，其中(a)R1、R2、R3及R4各自分别为H或－CH3；(b)R5b及R5c各自为H；(c)R5d为H、F或Cl；(d)R5a为H、F、Cl或甲基；(e)Z为－CH2－或键结，及(f)R7为C(O)R8或氰基。如申请专利范围第2项之化合物，或其互变异构物，或该化合物或该互变异构物之药学上可接受之盐，其中：Q为键结；及A为－(C3－C10)伸环烷基或－(C3－C10)伸环烯基。如申请专利范围第3项之化合物，或其互变异构物，或该化合物或该互变异构物之药学上可接受之盐，其中R5d为H。 |
