发明名称 |
阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种使用相同的光掩模由母玻璃基板制作多片阵列基板的情况下可以自由地形成或切断连接相邻的曝光区域的配线;即使是在由相同的母玻璃基板制造不同大小的阵列基板的情况下也可以利用相同的检查用探针装置进行检查的光掩模、阵列基板及其制造方法。解决手段是,构成上述光掩模以使得:在阵列基板的上端部形成上部上下走向配线,在下端部形成下部上下走向配线;以及在所述下部上下走向配线的左侧或右侧,形成向所述阵列基板下端侧的边界U转弯的“向边界U转弯部”和再次向所述阵列基板部U转弯的“向部U转弯部”。 |
申请公布号 |
CN101206393B |
申请公布日期 |
2012.01.11 |
申请号 |
CN200710305033.7 |
申请日期 |
2007.12.19 |
申请人 |
龙腾光电(控股)有限公司 |
发明人 |
川野英郎;砂山英树 |
分类号 |
G03F1/00(2012.01)I;G02F1/136(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/00(2012.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
臧霁晨;王忠忠 |
主权项 |
一种光掩模,用于制造能多片取得液晶显示装置用的TFT阵列基板、即以下简称为“阵列基板”,其特征在于,所述光掩模具有在阵列基板的上端部形成上下走向的配线、即下述“上部上下走向的配线”的区域、在阵列基板的下端部形成上下走向的配线、即下述“下部上下走向的配线”的区域,以及在所述下部上下走向的配线与所述上部上下走向的配线两者中的至少一配线的任一侧形成转弯部的区域,所述转弯部包括开口相反的面向边界的U转弯部和面向中央的U转弯部。 |
地址 |
英属维尔京群岛 |