发明名称 可变磁阻装置、台设备、光刻设备和器件制造方法
摘要 本发明公开一种可变磁阻装置、台设备、光刻设备以及器件制造方法。一种可变磁阻装置包括第一和第二磁性部件、线圈、测量线圈以及控制单元。第一和第二磁性部件相对于彼此是可位移的,以提供具有可变磁阻的磁路。线圈在使用时用于接收用于产生通过磁路的磁通量的电流。测量线圈产生表示通过磁路的磁通量的测量信号,由此测量线圈布置成基本上封闭通过磁路的磁通量。控制单元布置成在输入端子处接收通量信号,并且响应地基于测量信号在输出端子处提供控制信号,用于控制另一装置的力或电流的幅值。该装置可以例如应用于台设备或光刻设备。
申请公布号 CN102315749A 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201110189340.X 申请日期 2011.07.07
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 S·A·J·霍尔;W·H·T·M·安格内恩特;G·W·J·克里吉森;J·A·G·阿克曼斯;J·K·特维尔;J·德保伊;J·P·M·B·沃麦尤伦
分类号 H02K33/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H02K33/18(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种可变磁阻装置,包括:(a)第一和第二磁性部件,相对于彼此是可位移的、以提供具有可变磁阻的磁路;(b)线圈,在使用时用于接收用于产生通过所述磁路的磁通量的电流;(c)测量线圈,用于产生表示通过所述磁路的磁通量的测量信号,由此测量线圈布置成基本上封闭通过所述磁路的磁通量;和(d)控制单元,布置成在输入端子处接收测量信号,并且响应地基于测量信号在输出端子处提供控制信号,用于控制另一装置的力或电流的幅值。
地址 荷兰维德霍温