发明名称 |
形成图案化微结构的设备与方法 |
摘要 |
本发明有关于一种形成图案化微结构的设备及方法,用于一光学膜。形成图案化微结构的设备包括一置放平台以及一撞击装置。置放平台用于置放欲形成图案化微结构的对象。撞击装置包含一雕刻头以及至少一撞针,撞针用于撞击对象的至少一表面,以于对象的表面形成一图案化微结构。形成图案化微结构的方法包括利用至少一撞针依序撞击光学膜的至少一表面,使光学膜的表面产生多个凹洞,藉此于光学膜的表面形成一图案化微结构。本发明利用撞针以撞击方式于光学膜的表面形成多个凹洞以形成图案化微结构,藉此可以低成本的制造方式来生产高光学效率的具有图案化微结构的光学膜。 |
申请公布号 |
CN102310419A |
申请公布日期 |
2012.01.11 |
申请号 |
CN201110208922.8 |
申请日期 |
2011.07.21 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
赖清坤;陈晶川;曾德龙 |
分类号 |
B26D3/08(2006.01)I;B26D7/08(2006.01)I;B26D7/10(2006.01)I |
主分类号 |
B26D3/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
梁挥;祁建国 |
主权项 |
一种形成图案化微结构的方法,用于一光学膜,其特征在于,包括:利用至少一撞针依序撞击该光学膜的至少一表面,使该光学膜的该表面产生多个凹洞,藉此于该光学膜的该表面形成一图案化微结构。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 |