发明名称 处理气体导入机构和等离子体处理装置
摘要 本发明提供一种等离子体处理装置,其特征在于,它具备:产生等离子体的等离子体发生部;在内部收容被处理基板的腔室;设置在所述等离子体发生部和所述腔室之间,支撑所述等离子发生部并且装载在所述腔室上,将等离子体形成用的处理气体导入由所述等离子体发生部和所述腔室划成的处理空间的处理气体导入机构;和将所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部相对所述腔室进行装拆的拆装机构。
申请公布号 CN101106070B 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN200710105523.2 申请日期 2004.04.28
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 釜石贵之;岛村明典;森嶋雅人
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种等离子体处理装置,其特征在于,它具备:产生等离子体的等离子体发生部;在内部收容被处理基板的腔室;设置在所述等离子体发生部和所述腔室之间,支撑所述等离子发生部并且装载在所述腔室上,将等离子体形成用的处理气体导入由所述等离子体发生部和所述腔室划成的处理空间的处理气体导入机构;和将所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部相对所述腔室进行装拆的拆装机构,所述拆装机构包含使所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部一体地转动的铰链机构,所述处理气体导入机构具有:形成导入处理气体的气体导入通路,在其中央具有成为所述处理空间的一部分的空穴部的气体导入基座;和能够拆卸地安装在所述气体导入基座的所述空穴部中,具有多个气体喷出孔的形成大致环状的气体导入板,所述气体导入板备有圆筒状的本体部、和在所述本体部下端边缘部形成的锷部,所述气体导入板通过插通于设置在所述锷部上的固定孔的螺钉能够拆卸地固定在所述气体导入基座上,将所述气体导入板安装在所述气体导入基座的所述空穴部时,由所述气体导入板覆盖所述气体导入基座的与所述空穴部接触的面。
地址 日本东京都
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