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发明名称
METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM
摘要
申请公布号
KR101102690(B1)
申请公布日期
2012.01.05
申请号
KR20097006183
申请日期
2007.09.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;H01L21/20
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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