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Ein Metrologiesystem für die Untersuchung von Objekten (2) hat eine abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes (6), in dem zumindest ein Abschnitt des zu untersuchenden Objektes (2) anordenbar ist, in ein Bildfeld. Eine EUV-Lichtquelle (3) dient zur Ausleuchtung des Objektfeldes (6) mit Beleuchtungs- und Abbildungslicht (4). Das Bildfeld wird von einer ortsauflösenden Detektionseinrichtung erfasst. Ein Strukturgenerator (13) des Metrologiesystems ist derart ausgeführt, dass das Objekt (6) in einem Strukturmodus des Metrologiesystems mit räumlich strukturiertem Beleuchtungs- und Abbildungslicht (4) ausgeleuchtet ist. Es resultiert ein Metrologiesystem, mit dem auch eine Erfassung von schwach ausgeprägten Defekten, insbesondere von flachen Defekterhöhungen im Bereich von wenigen nm, sicher möglich ist. |
