发明名称 |
一种半导体泵浦激光器 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体泵浦激光器,其包括半导体激光泵浦源、光学耦合系统和激光腔,激光腔包括前后腔片、激光增益介质、以及除激光增益介质以外的光学元件,其中激光增益介质由二片或二片以上掺杂离子浓度不同或吸收系数不同的激光增益介质组成,不同的激光增益介质顺泵浦光入射方向按掺杂离子浓度或吸收系数由小到大排列,利用掺杂离子浓度低的激光增益介质吸收部分泵浦光,泵浦光另一部分透过低掺杂的激光增益介质被掺杂离子浓度较高的激光增益介质泵浦吸收,减少掺杂离子浓度高的激光增益介质的热透镜效应,同时可以增强泵浦光的吸收,从而获得适于较宽泵浦波长范围、宽温度工作工作的半导体泵浦的激光器。 |
申请公布号 |
CN101247019B |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN200810070774.6 |
申请日期 |
2008.03.19 |
申请人 |
福州高意通讯有限公司 |
发明人 |
吴砺;卢秀爱 |
分类号 |
H01S3/06(2006.01)I;H01S3/16(2006.01)I;H01S3/0941(2006.01)I;H01S3/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01S3/06(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种半导体泵浦激光器,包括半导体激光泵浦源、光学耦合系统和激光腔,激光腔包括前后腔片、激光增益介质、以及除激光增益介质以外的光学元件,其特征在于:激光增益介质由二片或二片以上掺杂离子浓度不同或吸收系数不同的激光增益介质组成,不同的激光增益介质顺泵浦光入射方向按掺杂离子浓度或吸收系数由小到大排列,其不同的激光增益介质是各个晶格方向吸收相同的增益介质,浓度较低的激光增益介质放在泵浦光入射方向的前端,浓度较大的激光增益介质放在之后。 |
地址 |
350014 福建省福州市晋安区福兴大道39号1108信箱 |