发明名称 正型光阻组成物及光阻图型形成方法
摘要
申请公布号 TWI354867 申请公布日期 2011.12.21
申请号 TW095121612 申请日期 2006.06.16
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 竹下优;羽田英夫;岩井武
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种正型光阻组成物,其为含有经由酸之作用而可增大硷可溶性之树脂成份(A),与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物,其特征为,前述(A)成份为含有,结构单位(a1):含有由下述式(a1-0-1)所示结构单位,与式(a1-0-2)所示结构单位所成群中所选出之1个以上之结构单位@sIMGTIF!d10045.TIF@eIMG!(式中,R为氢原子、卤素原子、碳数1至5之烷基或卤化之碳数1至5之烷基;X1为具单环或多环式基之酸解离性溶解抑制基)@sIMGTIF!d10046.TIF@eIMG!(式中,R为氢原子、卤素原子、碳数1至5之烷基或卤化之碳数1至5之烷基;X2为具单环或多环式基之酸解离性溶解抑制基;Y2为伸烷基或脂肪族环式基)、结构单位(a2):含有由γ-丁内酯去除1个氢原子所得之基、具有内酯环之二环链烷去除1个氢原子所得之基、三环链烷去除1个氢原子所得之基及四环链烷去除1个氢原子所得之基所成群中所选出之1个以上之结构单位,结构单位(a3):含有由具羟基之二环链烷、三环链烷及四环链烷去除1个氢原子所得之基所成群中所选出之1个以上之丙烯酸酯所衍生之结构单位,及结构单位(a4):下述式(a4-1)之结构单位(a4),@sIMGTIF!d10047.TIF@eIMG!
地址 日本