| 发明名称 | 基板保持装置、具备其之曝光装置、元件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种基板保持装置，用以保持处理基板，该基板保持装置具备：基材；第1保持部，形成于该基材，用以吸附保持该处理基板；以及第2保持部，形成于该基材，用以将板体吸附保持于被该第1保持部吸附保持的该处理基板附近。本发明的基板保持装置，不仅板体的更换容易，且维修亦较容易。因此，适合用于液浸曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN102290364A | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
| 申请号 | CN201110167423.9 | 申请日期 | 2005.06.08 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 柴崎祐一 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 田野 |
| 主权项 | 一种基板保持装置，用以保持处理基板，其特征在于，该基板保持装置具备：基材；第1保持部，形成于该基材，用以吸附保持该处理基板；以及第2保持部，形成于该基材，用以将板体吸附保持于被该第1保持部吸附保持的该处理基板附近。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||