薄膜蒸镀装置

摘要

本发明公开一种薄膜蒸镀装置，其包括：支承板的基板支承机构；及喷淋头，配置在上述基板支承机构的上部，向上述基板供给处理气体。上述喷淋头包括：上部平板，形成有多个气道以提供上述处理气体的流路，在上述气道形成有气体喷射孔，施加高频电流而激励处理气体产生等离子体；挡板，配置在上述上部平板的下部，并形成有多个孔而使上述处理气体的流动均匀地分散；及喷射板，配置在上述挡板的下部，将通过上述挡板供给的上述处理气体喷射到上述基板上。

主权项

一种薄膜蒸镀装置，其特征在于，包括：基座，支承基板；及喷淋头，配置在上述基座的上部，具有电极的功能，向上述基板供给处理气体，上述喷淋头包括：上部平板，在同一平面上形成多个气道以提供上述处理气体的流路，在上述气道中形成有气体喷射孔；及喷射板，配置在上述上部平板的下部，具有将通过上述上部平板供给的上述处理气体喷射到上述基板上的喷射孔。