发明名称 制造成像光学元件的方法和光扫描设备
摘要 本发明涉及制造成像光学元件的方法和光扫描设备。在该方法中,该成像光学元件使多个光束进入偏转单元并且将那些光束引导到对应的待扫描表面,所述成像光学元件被光学地布置在相同的位置处并且具有相同的光学性能,该方法包括:对于具有相同光学性能的成像光学元件,在不同的光束通过状态的多个位置中的每一个位置处测量光学性能;基于与成像光学元件的光学功能表面的设计值的偏差量来计算成像光学元件的光学功能表面的校正形状;基于光学功能表面的校正形状来对与成像光学元件的光学功能表面对应的用于成型的模子的镜面加工镶嵌件的形状执行校正加工;以及通过使用经受校正加工的镜面加工镶嵌件来执行成型。
申请公布号 CN102289070A 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN201110158275.4 申请日期 2011.06.14
申请人 佳能株式会社 发明人 下村秀和
分类号 G02B26/12(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I 主分类号 G02B26/12(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 欧阳帆
主权项 一种制造成像光学元件的方法,所述成像光学元件具有相同的光学性能并且要被用于光扫描设备中,所述光扫描设备包括:多个光源单元;入射光学系统,用于使从所述多个光源单元发射的多个光束从相对于副扫描方向倾斜的方向进入偏转单元的相同的偏转表面;以及多个成像光学系统,用于将由所述偏转单元的相同的偏转表面偏转的多个光束引导到与所述多个光束对应的各个待扫描表面,在多个成像光学系统中,被光学地布置在相同的位置处并且具有相同的光学性能的成像光学元件被配置为根据与各个待扫描表面对应的多个光束而在副扫描方向上具有不同的光束通过状态,所述制造成像光学元件的方法包括:对于具有相同光学性能的成像光学元件,在不同的光束通过状态的多个位置中的每一个位置处测量光学性能;基于与成像光学元件的光学功能表面的设计值的偏差量来计算成像光学元件的光学功能表面的校正形状,基于在光学性能的测量中获得的多条测量数据来确定所述偏差量;基于在校正形状的计算中获得的光学功能表面的校正形状来对与成像光学元件的光学功能表面对应的用于成型的模子的镜面加工镶嵌件的形状执行校正加工;以及通过使用经受校正加工的镜面加工镶嵌件来执行成型。
地址 日本东京