发明名称 УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ УПОРЯДОЧЕННЫХ МИКРОСТРУКТУР ДИСЛОКАЦИЙ В ПРИПОВЕРХНОСТНОМ СЛОЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
摘要 Устройство для формирования упорядоченных микроструктур дислокаций в приповерхностном слое полупроводников, состоящее из импульсного YAG:Nd3+ лазера, светоделительной пластины, поворотных зеркал и фокусирующей линзы, отличающееся тем, что данное устройство позволяет проводить микроструктурирование интенсивности лазерного излучения путем интерференции двух лазерных лучей, полученных при расщеплении исходного лазерного луча, между которыми вносится определенная разность хода, и затем оба луча фокусируются на поверхность полупроводниковой пластины, на которой они интерферируют, приводя к нагреву поверхности с распределением температуры, повторяющем форму интерференционной картины, и к генерации упорядоченных микроструктур дислокаций.
申请公布号 RU111533(U1) 申请公布日期 2011.12.20
申请号 RU20110129857U 申请日期 2011.07.19
申请人 发明人
分类号 B81C1/00;H01L21/268 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
地址