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发明名称 PHOTOSENSITIVE POLYSILAZANE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNED POLYSILAZANE FILM
摘要
申请公布号 EP1164435(B1) 申请公布日期 2011.12.14
申请号 EP19990970175 申请日期 1999.10.05
申请人 AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. 发明人 NAGAHARA, TATSURO;MATSUO, HIDEKI;AOKI, TOMOKO;YAMADA, KAZUHIRO
分类号 G03F7/075;H01L21/027;C08K5/14;C08L83/16;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/312 主分类号 G03F7/075
代理机构 代理人
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