发明名称 |
具有嵌埋应变诱发材料的晶体管 |
摘要 |
本发明提出一种具有嵌埋应变诱发材料的晶体管,当在半导体装置的主动区域中形成开口、以并入应力诱发半导体材料时,通过使用布植制程,可达成较好的均匀性,以选择性地修改该主动区域的曝露部分的蚀刻行为。在此方法中,该开口的基本组构可调整成具有高度弹性,而同时又可减少对于图案负载效应的相依性。因此,晶体管特性的变化性可显著地降低。 |
申请公布号 |
CN102263032A |
申请公布日期 |
2011.11.30 |
申请号 |
CN201110153220.4 |
申请日期 |
2011.05.31 |
申请人 |
格罗方德半导体公司;格罗方德半导体德累斯顿第一模数有限责任及两合公司 |
发明人 |
F·威尔贝雷特;A·卫 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
代理机构 |
北京戈程知识产权代理有限公司 11314 |
代理人 |
程伟;王锦阳 |
主权项 |
一种方法,包括:在晶体管的一开始是结晶的主动区域中形成非结晶部分,该非结晶部分是侧向相邻于该晶体管的栅极电极结构;实施第一蚀刻制程,以将该非结晶部分的材料以实质上与方向无关的方式移除,并提供开口;实施第二蚀刻制程,以调整该开口的尺寸及形状,该第二蚀刻制程具有结晶异向性移除率;以及通过选择性外延成长制程,以至少在该开口中形成应变诱发半导体。 |
地址 |
英国开曼群岛 |