| 发明名称 | 利奈唑胺晶型V及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种利奈唑胺晶型V，其在使用辐射源为Cu-Kα的粉末X射线衍射光谱中，在衍射角2θ＝7.36、9.28、13.44、14.62、16.76、17.94、18.43、18.67、19.77、20.68、20.92、22.14、25.40、26.80、27.67、28.34、29.68、33.63和34.10度处有峰；2θ值误差范围为±0.2。本发明还公开了该利奈唑胺晶型V的制备方法：在加热条件下，将利奈唑胺与有机溶剂混合，待利奈唑胺完全溶解之后，进行冷却析晶，经分离，即得利奈唑胺晶型V；在冷却析晶步骤中，不加入利奈唑胺晶型V晶种时，所述的有机溶剂为甲苯和/或二甲苯；加入利奈唑胺晶型V晶种时，所述的有机溶剂为任意能溶解利奈唑胺的有机溶剂。本发明的利奈唑胺晶型V是一种全新的、具有优异的溶解性和热稳定性的晶型，尤其利于制成利奈唑胺口服制剂。 | ||
| 申请公布号 | CN102260222A | 申请公布日期 | 2011.11.30 |
| 申请号 | CN201110132514.9 | 申请日期 | 2011.05.20 |
| 申请人 | 上海医药工业研究院 | 发明人 | 孙辉;周伟澄 |
| 分类号 | C07D263/20(2006.01)I | 主分类号 | C07D263/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人 | 薛琦;朱水平 |
| 主权项 | 一种利奈唑胺晶型V，其在使用辐射源为Cu‑Kα的粉末X射线衍射光谱中，在衍射角2θ＝7.36、9.28、13.44、14.62、16.76、17.94、18.43、18.67、19.77、20.68、20.92、22.14、25.40、26.80、27.67、28.34、29.68、33.63和34.10度处有峰；2θ值误差范围为±0.2。 | ||
| 地址 | 200040 上海市北京西路1320号 | ||