发明名称 一种生长薄板硅晶体的方法
摘要 本发明公开了一种生长薄板硅晶体的方法,包括:将由硅原料熔化所形成的硅熔液流入到液态衬底的上面,所述的硅熔液浮于所述的液态衬底之上,形成硅熔液薄层;再通过温度场控制,使得在所述的硅熔液薄层和液态衬底的水平方向形成温度梯度,最终所述的硅熔液薄层结晶生成薄板硅晶体。由于液态衬底物质对硅熔液/硅晶体的支撑作用,容易形成表面平整的薄板硅。本发明的生长薄板硅晶体的方法中,不采用固体模具或提拉线即可形成硅熔液薄层,生长过程中不存在破坏晶体结构的物质,从而生成的薄板硅结晶颗粒大,生成的薄板硅面积大,产量高;在有单晶硅片引导的前提下,可生产薄板单晶硅。
申请公布号 CN102260903A 申请公布日期 2011.11.30
申请号 CN201110193163.2 申请日期 2011.07.11
申请人 浙江碧晶科技有限公司 发明人 李乔;马远
分类号 C30B15/20(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C30B29/64(2006.01)I 主分类号 C30B15/20(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 一种生长薄板硅晶体的方法,其特征在于,包括:将由硅原料熔化所形成的硅熔液流入到液态衬底的上面,所述的硅熔液浮于所述的液态衬底之上,形成硅熔液薄层;再通过温度场控制,使得在所述的硅熔液薄层和液态衬底的水平方向形成温度梯度,最终所述的硅熔液薄层结晶生成薄板硅晶体。
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