铬合金靶材及具有硬质薄膜的金属材料

摘要

本发明涉及铬合金靶材及具有硬质薄膜的金属材料。具体而言涉及铬合金靶材，由铬及硅组成，或由铬及锗组成，其中铬所占的重量百分比为5％至95％，且当经由物理气相溅射工艺所产生的薄膜的厚度大于或等于2微米时，上述薄膜的维氏硬度值分别为Hv800至Hv1200及Hv800至Hv1000。上述的靶材可用来产生具有硬质薄膜的金属材料，此金属材料包含金属基板以及铬硅合金薄膜，或包含金属基板以及铬锗合金薄膜。

主权项

铬硅合金靶材，由铬和硅组成，其中该铬所占的重量百分比为5％至95％；其中所述铬硅合金靶材当经由物理气相溅射工艺所产生的薄膜的厚度大于或等于2微米时，该薄膜的维氏硬度值为Hv800至Hv1200。