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发明名称 MATERIAL FOR FORMATION OF PROTECTIVE FILM, METHOD FOR FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN, AND SOLUTION FOR WASHING/REMOVAL OF PROTECTIVE FILM
摘要
申请公布号 KR101085371(B1) 申请公布日期 2011.11.21
申请号 KR20097004734 申请日期 2007.09.13
申请人 发明人
分类号 G03F7/11;G03F7/38 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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