发明名称 |
结势垒肖特基二极管 |
摘要 |
一种结势垒肖特基二极管具有:一N型井,具有一表面及一第一杂质浓度;一P型阳极区,位在该井之表面内并具有一第二杂质浓度;以及一N型阴极区,位在该井之表面内并水平紧靠该阳极区,且具有一第三杂质浓度。一第一N型区垂直紧靠该阳极区及该阴极区,并具有一第四杂质浓度。一欧姆接触系形成达至该阳极,且一肖特基接触系形成达至该阴极。该第四杂质浓度系小于该第一、第二及第三杂质浓度。一双硅化物结构也被纳入。 |
申请公布号 |
CN101681840B |
申请公布日期 |
2011.11.09 |
申请号 |
CN200880017609.2 |
申请日期 |
2008.05.09 |
申请人 |
英特赛尔美国股份有限公司 |
发明人 |
M·D·邱吉;A·宼尼斯基;L·G·皮尔斯;M·R·杰恩 |
分类号 |
H01L21/329(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/329(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
刘佳 |
主权项 |
一种集成电路中的结势垒肖特基二极管,该二极管包括:一N型井,位于P型基板中并具有一表面及第一杂质浓度;一P型阳极区,位于该井之表面内并具有一底面,且具有一第二杂质浓度;一N型阴极区,位于该井之表面内、水平紧靠该阳极区并具有一底面,且具有一第三杂质浓度;一第一N型区,垂直紧靠该阳极区及该阴极区的底面,并具有位于该阳极区的底面处的一第四杂质浓度;一埋入N型区,位于该N型井之内并具有一第五杂质浓度;一通达至该阳极区的欧姆接触,一通达至该阴极区之肖特基接触,及一从该表面通达至该埋入区之接触;以及该位于该阳极区的底面处的第四杂质浓度系小于该第一、第二、第三及第五杂质浓度。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |