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发明名称 PSM ALLIGNMENT METHOD AND DEVICE
摘要 <p>본 발명은 기록 시스템 및 소재의 정렬에 관한 발명이다. 특히, 본 발명은 SLM을 이용하여 제 1 패턴층을 가지는 소재 위에 제 2 패턴층을 기록하기 위한 정렬에 관한 발명이다. 본 발명은 마스크나 레티클의 제작에까지 확장될 수 있고, 마스크나 레티클을 이용한 소자 층 제작에 사용될 수도 있다. 본 발명의 특별한 태양들이 청구범위, 명세서, 도면에 기술된다.</p>
申请公布号 KR101080545(B1) 申请公布日期 2011.11.04
申请号 KR20067002463 申请日期 2004.08.03
申请人 发明人
分类号 G02B26/08;G03C5/00;G03F7/20;G03F9/00;G06K9/00 主分类号 G02B26/08
代理机构 代理人
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