发明名称 Al-Ni-La-Cu系Al-基合金溅射靶及其制造方法
摘要 本发明提供一种能减少使用含有Ni、La以及Cu的Al-Ni-La-Cu系Al-基合金溅射靶成膜时产生的飞溅的技术。含有Ni、La以及Cu的Al-Ni-La-Cu系Al-基合金溅射靶中,使用扫描型电子显微镜(2000倍)观察垂直于所述溅射靶的平面的截面的1/4t~3/4t(t为厚度)的部位时,(1)关于以Al和Ni为主体的Al-Ni系金属间化合物,平均粒径为0.3μm~3μm的Al-Ni系金属间化合物的总面积相对于Al-Ni系金属间化合物的全部面积以面积率计为≥70%,(2)关于以Al、La和Cu为主体的Al-La-Cu系金属间化合物,平均粒径为0.2μm~2μm的Al-La-Cu系金属间化合物的总面积相对于Al-La-Cu系金属间化合物的全部面积以面积率计为≥70%。
申请公布号 CN101691656B 申请公布日期 2011.11.02
申请号 CN200910132938.8 申请日期 2009.03.31
申请人 株式会社钢臂功科研;株式会社神户制钢所 发明人 高木胜寿;岩崎祐纪;得平雅也;后藤裕史
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I;C22C21/12(2006.01)I;C22F1/04(2006.01)I;C22F1/057(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 李贵亮
主权项 一种Al‑Ni‑La‑Cu系Al‑基合金溅射靶,其是含有Ni、La以及Cu的Al‑Ni‑La‑Cu系Al‑基合金溅射靶,其中,在以t作为垂直于所述溅射靶的平面的方向上的厚度的情况下,使用扫描型电子显微镜以2000倍的倍率观察垂直于所述溅射靶的平面的截面的1/4t~3/4t的部位,此时,(1)平均粒径处于0.3μm以上且3μm以下的范围内的Al‑Ni系金属间化合物的总面积相对于以Al和Ni为主体的Al‑Ni系金属间化合物的全部面积以面积率计为70%以上,并且,(2)平均粒径为0.2μm以上且2μm以下的Al‑La‑Cu系金属间化合物的总面积相对于以Al、La和Cu为主体的Al‑La‑Cu系金属间化合物的全部面积以面积率计为70%以上,所述溅射靶含有:0.05原子%以上且5原子%以下的Ni、0.10原子%以上且1原子%以下的La、0.10原子%以上且2原子%以下的Cu。
地址 日本国兵库县