基板处理装置和基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置，能够同时实现高吞吐量化和省占地面积化这样相反的条件。本发明的基板处理装置具有输送室和处理基板的处理室，所述输送室具有将基板从该输送室向所述处理室输送的第1基板输送部件，所述处理室具有：与所述输送室邻接的、具有第1基板载置台的第1处理部；与所述第1处理部中的所述输送室一侧不同侧邻接的、具有第2基板载置台的第2处理部；在所述第1处理部和所述第2处理部之间输送基板的第2基板输送部件；至少控制所述第2基板输送部件的控制部。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：输送室；处理基板的处理室；控制部，所述输送室具有将至少2张基板从该输送室向所述处理室输送的第1基板输送部件，所述处理室具有：与所述输送室邻接并具有内置有加热器的第1基板载置台的第1处理部；与所述第1处理部中的所述输送室一侧不同侧邻接并具有内置有加热器的第2基板载置台的第2处理部；在所述第1处理部和所述第2处理部之间输送基板的第2基板输送部件，所述控制部相对地控制所述第1基板输送部件、所述第2基板输送部件、所述第1基板载置台或所述第2基板载置台，从而使所述第1基板输送部件与内置在所述第1基板载置台的加热器之间的距离、和所述第2基板输送部件与内置在所述第2基板载置台的加热器之间的距离相同。