发明名称 晶片清洗自动脱水机
摘要 本实用新型属于晶片处理设备领域,尤其是一种晶片在清洗完成后进行脱水的晶片清洗自动脱水机。它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。本实用新型的有益效果是杜绝了无水乙醇脱水的安全隐患,提高了晶片清洗的质量和烘干效率。
申请公布号 CN202024573U 申请公布日期 2011.11.02
申请号 CN201020686947.X 申请日期 2010.12.29
申请人 常州松晶电子有限公司 发明人 任先林;刘杰
分类号 F26B5/08(2006.01)I;F26B25/02(2006.01)I 主分类号 F26B5/08(2006.01)I
代理机构 常州市维益专利事务所 32211 代理人 何学成
主权项 晶片清洗自动脱水机,其特征在于:它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。
地址 213034 江苏省常州市高新区百丈工业园创业东路11号