首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 GAS PURIFYING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
摘要 <p>기체중의 파티클을 제거하는 기체 청정장치로서, 제 1 필터층과 제 2 필터층을 갖고, 상기 제 1 필터층을 구성하는 섬유의 직경이 상기 제 2 필터층을 구성하는 섬유의 직경보다 굵은 것을 특징으로 하는 기체 청정장치. 또한, 상기의 기체 청정장치를 이용한 반도체 제조장치.</p>
申请公布号 KR101078910(B1) 申请公布日期 2011.11.01
申请号 KR20087024431 申请日期 2007.04.02
申请人 发明人
分类号 B01D46/52;H01L21/02 主分类号 B01D46/52
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com