SILICON WAFER CLEANING AGENT, WAFER REPELLENT USED IN THE CLEANING PROCESS FOR SILICON WAFER, METHOD FOR CLEANING SURFACE OF SILICON WAFER

摘要

실리콘 웨이퍼용 세정제는 적어도 수계 세정액과, 세정과정 중에 요철 패턴의 적어도 오목부를 발수화하기 위한 발수성 세정액을 포함한다. 해당 발수성 세정액은, 실리콘 웨이퍼의 Si와 화학적으로 결합 가능한 반응성 부위와 소수성기를 포함하는 발수성 화합물로 이루어지는 것, 또는 해당 발수성 세정액의 총량 100 질량%에 대하여 0.1 질량% 이상의 해당 발수성 화합물과, 유기용매가 혼합되어 포함되는 것으로 한다. 이 세정제에 의하여, 패턴 무너짐을 유발하기 쉬운 세정공정을 개선할 수 있다.