发明名称 |
照射光学系统、照射设备和半导体器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种照射光学系统、照射设备和半导体器件制造方法,其中,照射光学系统包括:第一投射光学系统,用于将从具有多个线性排列的发光点的激光源输出的多个光束彼此混合,并且将混合的光束分成多个光束,然后向具有彼此平行的多个狭缝的狭缝部件投射多个光束作为跨越多个狭缝延伸的线射束;以及第二投射光学系统,用于将狭缝部件的多个狭缝的图像投射到照射目标。 |
申请公布号 |
CN101539664B |
申请公布日期 |
2011.10.19 |
申请号 |
CN200910128441.9 |
申请日期 |
2009.03.17 |
申请人 |
索尼株式会社 |
发明人 |
月原浩一 |
分类号 |
G02B27/00(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
朱胜;高少蔚 |
主权项 |
一种照射光学系统,包括:第一投射光学系统,用于将从具有多个线性排列的发光点的激光源输出的多个光束彼此混合,并且将混合的光束分成多个光束,然后向具有彼此平行的多个狭缝的狭缝部件投射所述多个光束作为跨越所述多个狭缝延伸的线射束;以及第二投射光学系统,用于将所述狭缝部件的多个狭缝的图像投射到照射目标,所述第二投射光学系统包括:偏振控制元件阵列,其具有与所述多个狭缝的数目相等的多个偏振控制元件,用于接收通过所述狭缝部件的多个狭缝传送的多个光束并且控制接收到的多个光束的偏振;以及偏振射束分离器,用于接收通过所述偏振控制元件阵列传送的多个光束,并且通过使传送通过所述偏振射束分离器的多个光束的强度响应于入射的多个光束的偏振平面相对于所述偏振射束分离器的方向而变化,来调整多个光束的强度。 |
地址 |
日本东京都 |