| 发明名称 | 一种晶体硅太阳能电池三层减反射膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种晶体硅太阳能电池三层减反射膜，其是由三层膜构成，第一层为硅片表面的二氧化硅薄膜，厚度为20～30nm，折射率为1.15～1.25；第二层为二氧化钛和二氧化硅复合薄膜，厚度为80～90nm，折射率为1.30～1.45；第三层为纳米二氧化钛薄膜，厚度为50～60nm，折射率为2.12～2.28。第一层二氧化硅薄膜采用热氧化法制备，第二层复合薄膜和第三层纳米二氧化钛薄膜都采用溶胶凝胶涂覆法制备。本发明采用三层减反射膜，降低了电池表面对光的反射，提高了太阳能电池的光电转换效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102222704A | 申请公布日期 | 2011.10.19 |
| 申请号 | CN201110173943.0 | 申请日期 | 2011.06.27 |
| 申请人 | 光为绿色新能源有限公司 | 发明人 | 王月勤;王连红 |
| 分类号 | H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0216(2006.01)I |
| 代理机构 | 保定市燕赵恒通知识产权代理事务所 13121 | 代理人 | 周献济 |
| 主权项 | 一种晶体硅太阳能电池三层减反射膜，其特征在于：其是由三层膜构成，第一层为太阳能电池晶体硅表面的二氧化硅薄膜，厚度为20～30nm，折射率为1.15～1.25；第二层为二氧化钛和二氧化硅复合薄膜，厚度为80～90nm，折射率为1.30～1.45；第三层为纳米二氧化钛薄膜，厚度为50～60nm，折射率为2.12～2.28。 | ||
| 地址 | 074000 河北省高碑店市新工业区光为绿色新能源有限公司 | ||