| 摘要 |
<p>본 발명은 MEMS (Microelectromechanical systems) 및 NEMS (Nanoelectromechanical systems)와 같은 초소형 소자를 제작하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, MEMS(Microelectromechanical systems) 및 NEMS(Nanoelectromechanical systems)와 같은 초소형 소자를 제조하는 방법에 있어서, 고분자 층을 형성하는 단계; 및 상기 고분자 층을 고온에서 열처리하여 열분해 탄소층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 열분해 탄소 구조를 포함하는 초소형 소자의 제조방법이 제공된다. 또한, 기계적, 전기적 특성을 향상시키기 위해서, 상기 고분자 층에 인접한 불순물 층을 형성하거나, 고분자에 불순물 첨가한 고분자 층을 형성하는 것을 특징으로 하는 초소형 소자의 제조방법이 제공된다. 또한, 제1면과 그 제1면에 나란한 제2면을 구비한 기판; 상기 기판의 제2면 위에 형성된 절연층; 상기 절연층 위에 형성된 열분해 탄소층; 상기 절연층 위에 형성된 전극; 및 상기 기판의 제1면과 상기 열분해 탄소층 사이에 형성된 공동;을 포함하는 것을 특징으로 하는 열분해 탄소 구조를 포함하는 초소형 소자가 제공된다.</p> |
