| 发明名称 |
PHOTORESIST RESIN COMPOSITION |
| 摘要 |
<p>본 발명에 따른 감광성 수지 조성물과 이를 이용한 감광성 드라이 필름 레지스트는 기재와의 접착성과 내샌드블라스트성이 우수하면서 동시에 높은 해상도를 가질 뿐만 아니라, 고감도이어서 기재의 미세 패턴 형성이 가능하다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101073620(B1) |
申请公布日期 |
2011.10.14 |
| 申请号 |
KR20040032321 |
申请日期 |
2004.05.07 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/027;G03C1/492;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/038;G03F7/11;H01J9/02;H01J11/22;H01J11/34;H01J11/36 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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