Apparatus for thermal processing of substrate,申请号KR20090103683-传众专利搜索

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发明名称	Apparatus for thermal processing of substrate
摘要	<p>따라서, 공정 챔버 내부의 온도 산포를 최소화할 수 있고, 기판의 모든 영역에 균일한 열을 공급할 수 있다.</p>
申请公布号	KR101073550(B1)	申请公布日期	2011.10.14
申请号	KR20090103683	申请日期	2009.10.29
申请人		发明人
分类号	H01L21/324	主分类号	H01L21/324
代理机构		代理人
主权项
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