发明名称 Maskenuntersuchungsgerät und Bilderzeugungsverfahren
摘要 Ein Maskenuntersuchungsgerät enthält: Bestrahlungsmittel zum Bestrahlen einer Probe mit einem Elektronenstrahl, Elektronenerfassungsmittel zum Erfassen einer Quantität an Elektronen, die von der Probe, die darauf eine Struktur aufweist, durch die Bestrahlung mit dem Elektronenstrahl erzeugt werden, Bildverarbeitungsmittel zum Erzeugen von Bilddaten der Struktur auf der Grundlage der Quantität an Elektronen, Speichermittel zum Speichern der Bilddaten darin und Steuermittel zum Berechnen der Zahl von ein ganzes vereinigtes Bild bildenden Teilbildern auf der Grundlage der Größe eines vorgegebenen Beobachtungsbereichs, Bestimmen von Teilbereichen auf solche Weise, dass einander benachbarte Teilbilder einander überlappen, Gewinnen der Teilbilder der entsprechenden Teilbereiche und Speichern der Teilbilder im Speichermittel. Das Steuermittel, beginnend bei einem vorgegebenen Teilbild der im Speichermittel gespeicherten Teilbilder der entsprechenden Teilbereiche, entnimmt zwei einander benachbarte Teilbilder in einer vorgegebenen Reihenfolge. Für jedes der zwei einander benachbarten Teilbilder ermittelt das Steuermittel ein Bild desselben in einem Überlappungsbereich zwischen den zwei einander benachbarten Teilbildern enthaltenen Musteranordnungsbereichs und bestimmt das ermittelte Bild als Vereinigungsreferenzbild. Das Steuermittel vereinigt dann die zwei einander benachbarten Teilbilder auf der Grundlage des Vereinigungsreferenzbilds, um dadurch ein ganzes REM-Bild des beobachteten Bereichs zu bilden.
申请公布号 DE102011001984(A1) 申请公布日期 2011.10.13
申请号 DE20111001984 申请日期 2011.04.12
申请人 ADVANTEST CORP. 发明人 MURAKAWA, TSUTOMU;OGISO, YOSHIAKI
分类号 H01J37/28;G03F1/84;G03F1/86;H01J37/22;H01L21/027 主分类号 H01J37/28
代理机构 代理人
主权项
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