一种悬架结构光刻胶的涂胶方法

摘要

本发明涉及一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，具有能够在沟槽、孔洞、微柱等结构上形成悬架结构，并用于光刻掩膜的特性。其具体步骤为：首先将少量一定浓度的光刻胶滴于极性溶液表面，使之在气-液界面自组装形成一定厚度的光刻胶膜，再将该光刻胶膜转移至已刻蚀出图形的半导体材料上，使之跨过沟槽和孔洞等形成悬架的光刻胶结构，之后对该光刻胶膜进行前烘、曝光、显影及后烘等步骤形成光刻图形。该光刻胶膜可实现刻蚀掩膜、牺牲层材料、胶保护等功能，其工艺过程简单、用料节省、成本低廉。

主权项

一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，其特征在于，包括以下步骤：1)使光刻胶在极性溶液表面自组装形成光刻胶膜；2)将所述光刻胶膜转移至已刻蚀有图形的半导体材料上；3)晾干水份，之后对所述光刻胶膜依次进行前烘、曝光、显影、后烘。