发明名称 |
一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,包括:选择一衬底;在该衬底上生长一氮化镓成核层;在该氮化镓成核层上生长非故意掺杂氮化镓层;在该非故意掺杂氮化镓层上生长一氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层;在该氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层上生长N型掺杂的氮化镓层;在该N型掺杂的氮化镓层上生长氮化铝镓铟多量子阱发光层;在该氮化铝镓铟多量子阱发光层上生长P型掺杂的氮化铝镓铟层;以及在该P型掺杂的氮化铝镓铟层上生长P型掺杂的氮化镓层。利用本发明,可以调制外延层中因为晶格失配带来的应力,同时使GaN外延层中的位错转向、合并,从而降低后续生长的外延层中穿透位错的密度,改善材料质量,提高发光二极管的抗静电能力。 |
申请公布号 |
CN102214740A |
申请公布日期 |
2011.10.12 |
申请号 |
CN201110136242.X |
申请日期 |
2011.05.24 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
李志聪;姚然;王兵;梁萌;李鸿渐;李盼盼;李璟;王国宏;李晋闽 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;C30B29/68(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C30B29/38(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,其特征在于,包括:选择一衬底;在该衬底上生长一氮化镓成核层;在该氮化镓成核层上生长非故意掺杂氮化镓层;在该非故意掺杂氮化镓层上生长一氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层;在该氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层上生长N型掺杂的氮化镓层;在该N型掺杂的氮化镓层上生长氮化铝镓铟多量子阱发光层;在该氮化铝镓铟多量子阱发光层上生长P型掺杂的氮化铝镓铟层,该氮化铝镓铟层为单层或者不同组分与厚度的氮化铝镓铟多层结构;以及在该P型掺杂的氮化铝镓铟层上生长P型掺杂的氮化镓层。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |