发明名称 一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法
摘要 本发明公开了一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,包括:选择一衬底;在该衬底上生长一氮化镓成核层;在该氮化镓成核层上生长非故意掺杂氮化镓层;在该非故意掺杂氮化镓层上生长一氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层;在该氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层上生长N型掺杂的氮化镓层;在该N型掺杂的氮化镓层上生长氮化铝镓铟多量子阱发光层;在该氮化铝镓铟多量子阱发光层上生长P型掺杂的氮化铝镓铟层;以及在该P型掺杂的氮化铝镓铟层上生长P型掺杂的氮化镓层。利用本发明,可以调制外延层中因为晶格失配带来的应力,同时使GaN外延层中的位错转向、合并,从而降低后续生长的外延层中穿透位错的密度,改善材料质量,提高发光二极管的抗静电能力。
申请公布号 CN102214740A 申请公布日期 2011.10.12
申请号 CN201110136242.X 申请日期 2011.05.24
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 李志聪;姚然;王兵;梁萌;李鸿渐;李盼盼;李璟;王国宏;李晋闽
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;C30B29/68(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C30B29/38(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,其特征在于,包括:选择一衬底;在该衬底上生长一氮化镓成核层;在该氮化镓成核层上生长非故意掺杂氮化镓层;在该非故意掺杂氮化镓层上生长一氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层;在该氮化铝镓/氮化镓超晶格插入层上生长N型掺杂的氮化镓层;在该N型掺杂的氮化镓层上生长氮化铝镓铟多量子阱发光层;在该氮化铝镓铟多量子阱发光层上生长P型掺杂的氮化铝镓铟层,该氮化铝镓铟层为单层或者不同组分与厚度的氮化铝镓铟多层结构;以及在该P型掺杂的氮化铝镓铟层上生长P型掺杂的氮化镓层。
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