发明名称 |
阳图制版可成像元件及其使用方法 |
摘要 |
对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层,所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像,并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理,所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。 |
申请公布号 |
CN102216079A |
申请公布日期 |
2011.10.12 |
申请号 |
CN200980146813.9 |
申请日期 |
2009.11.12 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
A·P·基特森;K·B·雷;S·萨雷亚;F·E·米克尔;J·帕特尔 |
分类号 |
B41C1/10(2006.01)I |
主分类号 |
B41C1/10(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
张萍;林毅斌 |
主权项 |
对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件,它包含其上具有单一可成像层的衬底,所述可成像层包含吸收红外辐射的化合物和在其主链中包含氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料,其中所述第一聚合物连接料不溶于水中且可溶于碱性溶液中。 |
地址 |
美国纽约州 |