| 发明名称 | 一种高反应率反应室 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种高反应率反应室，包括室体，室体具有顶壁、底壁及连接顶壁与底壁的两侧壁，顶壁内侧面上设有复数上挡板，底壁内侧面上设有复数下挡板，上挡板与下挡板向内的顶端上下相互交叉，上挡板与下挡板之间平行的间隔排布，室体上连接有输入管道及输出管道。本发明通过在室体内设置若干挡板，使气体多次接触金属源表面，发生多次反应，从而提高了反应效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102212799A | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN201110142250.5 | 申请日期 | 2011.05.30 |
| 申请人 | 东莞市中镓半导体科技有限公司 | 发明人 | 赵红军;刘鹏;李燮;陆羽;毕绿燕;孙永健;张国义 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 谭一兵 |
| 主权项 | 一种高反应率反应室，包括室体（1），室体（1）具有顶壁（11）、底壁（12）及连接顶壁（11）与底壁（12）的两侧壁（13），其特征在于：所述顶壁（11）内侧面上设有复数上挡板（21），所述底壁（12）内侧面上设有复数下挡板（22），所述上挡板（21）与下挡板（22）向内的顶端上下相互交叉，所述上挡板（21）与下挡板（22）之间平行的间隔排布，室体（1）上连接有输入管道（3）及输出管道（4）。 | ||
| 地址 | 523518 广东省东莞市企石镇科技工业园 | ||