| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够在短时间内更换在处理容器内配置的能够更换的处理容器内部件的基板处理装置。基板处理装置(1)包括收容基板(G)的腔室(2)、在配置在腔室(2)内的载置台(3)的基材(3a)上面设置的能够更换的载置板(3b)、用于在腔室(2)内对基板(G)实施等离子体处理的高频电源(17)、以及向腔室(2)内导入处理气体的喷淋头(20)，其中，载置板(3b)利用静电吸附被安装在基材(3a)上。 | ||
| 申请公布号 | CN101465284B | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN200810186170.8 | 申请日期 | 2008.12.19 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 佐藤亮;齐藤均 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：收容基板的处理容器；配置在处理容器内的能够更换的处理容器内部件；和在所述处理室内对基板实施规定处理的处理机构，其中，所述能够更换的处理容器内部件的至少一个利用静电吸附被安装。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||