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发明名称 Metrology stage for lithography applications
摘要
申请公布号 EP1701216(B1) 申请公布日期 2011.10.12
申请号 EP20060251118 申请日期 2006.03.01
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS;VOS, HARALD PETRUS CORNELIS
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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