发明名称 apparatus for processing a thin film on substrate for flat panel display device
摘要 <p>구체적으로 본 발명은 기판이 안착되는 스테이지와; 상기 기판 상부로 위치되며 일 지점에 상하 관통 개구된 리텐션영역, 상기 리텐션영역 상단을 밀폐하는 투명윈도우, 상기 투명윈도우 하단의 상기 기판 일 지점으로 외부의 반응가스를 집중 분사하는 디스펜스유닛, 상기 기판과 대면되는 배면에 형성된 다수의 흡입홀, 상기 다수의 흡입홀을 내부로 연통시켜 잉여의 상기 반응가스를 흡입 배출하는 가스배출유로가 구비된 가스쉴드와; 상기 가스쉴드 상부로 위치되어 상기 투명윈도우를 통해서 상기 기판 일 지점으로 소정의 광 또는 파장 에너지를 조사하는 에너지소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조를 위한 기판의 박막처리장치를 제공한다.</p>
申请公布号 KR101071136(B1) 申请公布日期 2011.10.10
申请号 KR20040067917 申请日期 2004.08.27
申请人 发明人
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项
地址