发明名称 陶瓷镀铜基板制造方法及其结构
摘要 本发明涉及一种陶瓷镀铜基板制造方法及其结构,其包含:选定一陶瓷基板;利用溅镀制程在陶瓷基板表面形成一镍金属层;将一铜金属层镀膜于镍金属层上;应用压膜、曝光显影与蚀刻制程等方式来形成线路图案;以及把铜金属层上的抗蚀刻干膜剥除形成一陶瓷镀铜基板。本发明的陶瓷基板表面先进行溅镀镍金属层,使其表面金属化或完成镀通孔壁作用,而镍金属层可与铜金属层共享相同的蚀刻药水来制作线路图案,故具有一般性印刷电路板的制程考虑,有效减化制程并且降低材料及制造成本,亦有效地提升陶瓷基板与各金属镀层之间的抗撕离或黏合强度,藉以强化整体的结构强度。
申请公布号 CN102208352A 申请公布日期 2011.10.05
申请号 CN201010134056.8 申请日期 2010.03.29
申请人 佑每佑科技股份有限公司 发明人 胡泉凌;陈誉尉;林舜天;蔡镇隆
分类号 H01L21/48(2006.01)I;H01L23/498(2006.01)I;H01L23/15(2006.01)I 主分类号 H01L21/48(2006.01)I
代理机构 北京高默克知识产权代理有限公司 11263 代理人 陆式敬
主权项 一种陶瓷镀铜基板制造方法,其特征在于包含以下步骤:选定一陶瓷基板;利用溅镀制程在上述陶瓷基表面形成一镍金属层;将一铜金属层以镀膜方式成型于上述镍金属层上;应用压膜、曝光显影与蚀刻制程等方式来形成线路图案;以及将铜金属层上的抗蚀刻干膜剥除形成一陶瓷镀铜基板。
地址 塞舌尔共和国马埃岛柏菲德恩斯工业区兹柏罗尔街蒂克房1楼
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