| 发明名称 | 相位差膜 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是通过使用了聚碳酸酯的熔融挤出法以良好的生产率和低成本提供膜的异物少、缺陷少、并且相位差不均小、符合作为相位差膜的要求品质的相位差膜。本发明涉及一种相位差膜，其特征在于，是将聚碳酸酯的熔融挤出膜进行拉伸取向的相位差膜，(1)构成膜的聚碳酸酯的粘均分子量在1.3×104～1.8×104的范围，(2)以波长589nm测定的膜面内的相位差R(589)为50～800nm，(3)膜面内的相位差R(589)的不均在±5nm的范围，(4)膜的平均厚度为10～150μm，(5)大小为100μm以上的膜的缺陷为2个/m2以下。 | ||
| 申请公布号 | CN102209918A | 申请公布日期 | 2011.10.05 |
| 申请号 | CN200980144543.8 | 申请日期 | 2009.11.06 |
| 申请人 | 帝人化成株式会社 | 发明人 | 新田英昭;芝田纯一;佐佐木敦史;村上雅裕 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;B29C55/02(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I;B29K69/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 苗堃;赵曦 |
| 主权项 | 一种相位差膜，其特征在于，是将聚碳酸酯的熔融挤出膜进行拉伸取向而得的相位差膜，(1)构成膜的聚碳酸酯的粘均分子量在1.3×104～1.8×104的范围，(2)以波长589nm测定的膜面内的相位差R(589)为50～800nm，(3)膜面内的相位差R(589)的不均在±5nm的范围，(4)膜的平均厚度为10～150μm，(5)大小为100μm以上的膜的缺陷为2个/m2以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||