发明名称 一种制备MgZnO三元化合物有序薄膜的方法
摘要 一种制备MgZnO三元化合物有序薄膜的方法,其特征是方法步骤为:(1)制作纯净锌源和镁源;(2)对单晶的金属衬底在超高真空条件下进行表面清洁处理;(3)待锌源和镁源的蒸发速率稳定后,将衬底表面正对金属源;(4)在氧气氛中Zn和Mg蒸发并共沉积在金属衬底表面,形成MgZnO三元化合物有序薄膜;(5)如果需要改变Mg和Zn的相对含量,只需在保持Zn源蒸发速率不变的情况下改变Mg源的蒸发速率。依次重复上述步骤(3)和(4),即可得到不同Mg含量的MgZnO三元化合物有序薄膜。本发明的优点是:排除了热力学平衡态下ZnO铅锌矿相与MgO岩盐矿相的竞争,提高了薄膜结晶相的稳定性,确保了实验结果的可重复性。
申请公布号 CN101805885B 申请公布日期 2011.10.05
申请号 CN201010139902.5 申请日期 2010.04.06
申请人 南昌航空大学 发明人 薛名山;李文;王法军
分类号 C23C14/26(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I 主分类号 C23C14/26(2006.01)I
代理机构 南昌洪达专利事务所 36111 代理人 刘凌峰
主权项 一种制备MgZnO三元化合物有序薄膜的方法,其特征是方法步骤为:(1)制作纯净锌源和镁源:先将纯金属锌丝和镁带用酒精和丙酮进行超声波清洗后,紧紧缠绕在清洁钨丝上,再将镁和锌这两种金属源分别固定在法兰上,装入并固定于真空室中,在真空室真空度达到超高真空后,采用直流电流加热法对金属源加热,以除去金属源表面吸附的气体杂质和氧化层,从而使生长时蒸发出来的金属原子具有很高的纯度;(2)对单晶的金属Mo(110)衬底表面进行清洁处理,即通过在真空室内通入1×10‑5Pa的O2,使金属衬底在800~900℃温度下退火10分钟,再关闭氧气并迅速将衬底加热至1300℃;按照上述过程反复操作几次后,再使衬底在1800~2000℃下退火,即得到表面完全清洁的金属衬底;(3)在真空室内金属源蒸发并沉积在金属衬底表面,利用测厚仪测定镁和锌的蒸发速率,控制锌源和镁源的蒸发速率在0.1~0.4nm/min之间;在测定生长速率之后,保持锌源的蒸发速率不变,调节镁源的蒸发速率,从而调节MgZnO化合物薄膜中Zn和Mg的相对含量;(4)待金属源的蒸发速率稳定后,将衬底表面正对金属源,通入压强≤1×10‑4Pa的O2,根据所需要的薄膜厚度,设定需要生长的时间,待生长完成后,再以20‑30℃/min的速率将衬底温度缓慢地从室温升高至350‑400℃,待温度稳定后关闭氧气阀,在此温度保持10分钟后,使衬底自然冷却至室温,这里在生长完成后选择提高衬底温度,目的是为了使在室温下形成的薄膜能够二次再结晶,从而提高薄膜的稳定性;(5)对于Mg和Zn相对含量不同的MgZnO薄膜的制备,只需要在保持Zn源蒸发速率不变的条件下,调节Mg源的蒸发速率,依次重复上述步骤(3)和(4),即可得到不同Mg含量的MgZnO三元化合物有序薄膜。
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