| 发明名称 | 带电粒子束描绘方法及带电粒子束描绘装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够以高准确度计算因带电效应导致的射束位置偏移量分布的带电粒子束描绘方法及带电粒子束描绘装置。将图案密度分布ρ(x，y)和利用该图案密度分布ρ(x，y)计算出的剂量分布D(x，y)相乘，来计算照射量分布E(x，y)(S104)。使用照射量分布E(x，y)和描述雾扩散分布的函数g(x，y)，来计算雾电子量分布F(x，y，σ)(S106)。利用照射量分布E(x，y)和雾电子量分布F(x，y，σ)，来计算照射区域及非照射区域的带电量分布C(x，y)(S108)。使用带电量分布C(x，y)和将带电量变换为位置偏移误差的响应函数r(x，y)，来计算位置偏移量分布p(x，y)(S110)。 | ||
| 申请公布号 | CN101546135B | 申请公布日期 | 2011.10.05 |
| 申请号 | CN200910130618.9 | 申请日期 | 2009.03.25 |
| 申请人 | 纽富来科技股份有限公司 | 发明人 | 中山田宪昭;和气清二 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈萍 |
| 主权项 | 一种带电粒子束描绘方法，使带电粒子束偏转，在载物台上的试样上描绘图案，其特征在于，包括：利用照射在试样上的带电粒子束的照射量分布、以及雾电子量分布，计算带电粒子束的照射区域的带电量分布和非照射区域的带电量分布的工序；根据上述照射区域及非照射区域的带电量分布，计算上述试样上的上述带电粒子束的位置偏移量的分布的工序；以及根据上述位置偏移量的分布使上述带电粒子束偏转，在上述试样上描绘图案的工序。 | ||
| 地址 | 日本静冈县 | ||