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发明名称
PLASMA DOPING METHOD
摘要
Plasma doping is performed using a plasma made of a gas containing an impurity which will serve as a dopant. In this case, at least one of plasma generation high-frequency power and biasing high-frequency power is supplied in the form of pulses.
申请公布号
US2011230038(A1)
申请公布日期
2011.09.22
申请号
US201113051436
申请日期
2011.03.18
申请人
HAYASHI SHIGENORI;KUBOTA MASAFUMI;SASAKI YUICHIRO
发明人
HAYASHI SHIGENORI;KUBOTA MASAFUMI;SASAKI YUICHIRO
分类号
H01L21/263
主分类号
H01L21/263
代理机构
代理人
主权项
地址
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